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      產品詳細頁
      密真空氣氛爐

      簡要描述:密真空氣氛爐廣泛用于高校、科研院所、工礦企業等做粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等實驗和生產理想設備。

      • 廠商性質:生產廠家
      • 更新時間:2025-11-10
      • 訪  問  量:1770

      產品介紹

      品牌中奧菲達升溫速度(達到最高溫)60/min
      內部尺寸300-200-120mm加熱方式硅碳棒
      最大功率4000kW控溫精度1℃
      最高溫度1400℃價格區間1萬-2萬
      儀器種類真空爐產地類別國產
      應用領域醫療衛生,環保,生物產業,綜合

      適用范圍
            本設備廣泛用于高校、科研院所、工礦企業等做粉末、電子、冶金、醫藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結和金屬熱處理等實驗和生產理想設備。

       
      密真空氣氛爐真空氣氛系統:
            真空密封系統采用特種設計技術,具有操作安全、方便、真空度高,密封性好,真空保持時間長,密封采用不銹鋼金屬法蘭及O型耐高溫氟膠圈密封,氣體經過流量計后由針型閥開關進入爐管內,閥控配有進氣閥,排氣、抽真空閥。減壓閥,安全閥,可通多種氣體、氬氣、氮氣、氧氣、氧化碳、氨分解氣等氣體,可充入高壓氣體,氣氛壓力限值0.1MPa,采用*的密封技術,可長時間保壓,安全性能好,操作方便。


      密真空氣氛爐主要技術參數:

      項  目

      單位

      有效使用尺寸

      有效使用尺寸

      有效使用尺寸

      有效使用尺寸

      爐膛尺寸

         mm

      200X150X150

      300X200X200

      500X300X200

      500X500X500

       溫度類別

      1000℃、1200℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃

       控制度

      ±1℃

      溫度均勻度

      ≤1

      ≤1℃

      ≤1.5℃

      ≤2℃

      加熱元件

       

      根據溫度而定,采用電阻絲、硅碳棒、硅鉬棒、石墨。

      電壓/頻率

       AC/Hz

      220/50

      380/50

      380/50

      380/50

      設計功率

      KW

      4

      10

      15

      25

      溫控方式

       

      微電腦智能調節技術,具有PID調節、全自動控制、自整定功能,多段程序編程,并可編制各種升溫、保溫、降溫程序,控溫度高;集成模塊可控硅控制、移相觸發。

       保護裝置

      獨立超溫保護、超壓、超流、漏電、短路等保護,自動化程度較高,

      主要附件

      高溫手套,坩堝鉗,發熱元件,門堵,合格證,說明書,質保書。

       可選配

      無紙記錄儀,有紙記錄儀,電腦液晶觸摸屏,人機畫面
      通訊聯機功能,多臺設備臺電腦控制,打印與保存數據,實現操作簡單方便,實時可查看與保存數據。

      留言框

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